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                                    ABB
                            
    
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 智庫報告
		
    
		
    
			
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    光刻機行業(yè)報告：從0到1，星辰大海
    
				
    
					
      
                                                                        
    • 點擊數(shù)：876     發(fā)布時間：2023-04-12 19:36:36
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                    光刻機是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個過程需要用到的設(shè)備種類繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機、光刻機、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕機、離子注入機、拋光設(shè)備、清洗設(shè)備和檢測設(shè)備等。在整個半導(dǎo)體芯片制造過程中，光刻是最復(fù)雜工藝，光刻工藝的費用約占芯片制造成本的1/3左右，耗費時間占比約為40-50%，光刻工藝所需的光刻機是最貴的半導(dǎo)體設(shè)備。
				
    
                
                
                                    
    
                        關(guān)鍵詞：
                                            
    
                                                                    
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