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    NI發布業界最高精度的PXI源測量單元
    全新的低電流SMU提供了高達10 fA的電流靈敏度
    模塊化NI PXI SMU可幫助工程師來構建緊湊型并行高通道數系統,在單個PXI機箱中提供了高達68個SMU通道,而且可擴展至數百個通道來滿足晶圓級可靠性和并行測試需求。 此外,用戶還可利用高速通信總線、確定性硬件序列生成、以及使用數字控制回路技術對任意待測設備自定義調節SMU響應,從而提高測試吞吐量。
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    2016年7月11日– NI(美國國家儀器,National Instruments, 簡稱NI) 作為致力于為工程師和科學家提供解決方案來應對全球最嚴峻的工程挑戰的供應商,近日宣布推出NI PXIe-4135源測量單元(SMU),其測量靈敏度達10 fA,輸出電壓高達200V。工程師可以使用NI PXIe-4135 SMU來測量低電流信號,并利用NI PXI SMU的高通道密度、高速的測試吞吐率和靈活性來實現晶圓級參數測試、材料研究以及分析低電流傳感器和集成電路的特性等各種應用。

    “我們的順序參數測試需要采集數百萬個數據點,電流泄露通常在pA級。”IMEC研究人員Bart De Wachter博士表示, “在受益于PXI平臺提供的高速度和LabVIEW的系統編程靈活性的同時,全新的NI PXI SMU可幫助我們精確地測量低電流信號。”

    模塊化NI PXI SMU可幫助工程師來構建緊湊型并行高通道數系統,在單個PXI機箱中提供了高達68個SMU通道,而且可擴展至數百個通道來滿足晶圓級可靠性和并行測試需求。 此外,用戶還可利用高速通信總線、確定性硬件序列生成、以及使用數字控制回路技術對任意待測設備自定義調節SMU響應,從而提高測試吞吐量。 工程師還可以通過軟件控制SMU響應,避免了長時間等待SMU穩定,并可借助NI PXI SMU的靈活性來最小化過沖和振蕩,即使是在帶有高電容性的負載的情況下也是如此。

    “半導體器件復雜性的增加要求我們重新思考傳統的研究、特性分析和晶片可靠性測量方法,而這一直是我們投資PXI SMU的關鍵動力,”NI自動化測試總監Luke Schreier表示, “NI SMU降低了測量時間,提高了通道密度,而且現在更提供了更好的測量質量和高達10 fA的靈敏度。”

    NI PXI SMU不僅提供了臺式SMU的易用性,其交互式軟件前面板也可用于進行基本的測量和調試自動化應用。  驅動程序包含了幫助文件、文檔描述和可立即運行的范例程序,可輔助測試代碼開發,并包含了一個編程接口,可支持C、Microsoft .NET和LabVIEW系統設計軟件等各種開發環境。 工程師還可結合NI TestStand測試管理軟件使用NI PXI SMU,簡化實驗室或生產車間的測試系統開發和部署。


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